ASML leads the lithography market with solid growth and pricing power. Read why ASML stock’s 14% IRR and $923 target reflect ...

“图纸给你们也造不出！”这是ASML曾对中国芯片专家的嘲讽。然而2025年3月25日，中国科学院宣布的固态深紫外（DUV）激光技术，不仅让这句傲慢的预言沦为笑柄，更意味着中国半导体产业正式向3nm工艺发起冲锋。 这项技术究竟如何绕过ASML的专利封锁？它能否 ...

早年间荷兰光刻机巨头ASML高管曾放出豪言：“即使给中国图纸，他们也造不出光刻机。”多年后的今天，中国科学院宣布全固态深紫外（DUV）激光光源技术突破，直接瞄准3nm芯片工艺。这场逆袭不仅撕碎了外界的嘲讽，更让全球半导体行业意识到：中国正用自主 ...

本文引用地址： 据悉，ASML、佳能、尼康的DUV光刻机都采用了氟化氙(ArF)准分子激光技术，通过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不稳定分子 ...

快科技3月25日消息，据悉，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体工艺推进至3nm。 据悉，ASML、佳能、尼康的DUV光刻机都采用了氟化氙(ArF)准分子激光技术 ...

据悉，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体工艺推进至3nm。 据悉，ASML、佳能、尼康的DUV光刻机都采用了氟化氙(ArF)准分子激光技术，通过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不 ...

据悉，ASML、佳能、尼康的DUV光刻机都采用了氟化氙(ArF)准分子激光技术，通过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不稳定分子，释放出193nm波长的 ...