中国芯片极紫外（EUV）光刻光源技术获得重大突破，使用固体光源突破被美国“卡脖子”的局面。 4月29日消息，据环球时报旗下账号“哇喔·环球新 ...

这一点，早已一次又一次应验，如今也有望出现在半导体的极紫外光刻机（EUV）领域。 据《中国激光》杂志今年第6期（2025年3月下）所刊登的一篇 ...

这一点，早已一次又一次应验，如今也有望出现在半导体的极紫外光刻机（EUV）领域。 据《中国激光》杂志今年第6期（2025年3月下）所刊登的一篇 ...

4月29日消息，据中国香港南华早报报道，我国研究人员已经建立了一个运行参数具有国际竞争力的EUV光源实验平台，对于我们自主研发半导体的极 ...

4月29日，由中国科学院上海光机所林楠研究员领衔，成功构建出以国际竞争参数运行的极紫外（EUV）光源平台。这项突破不仅打破了西方在 EUV 核心技术上的垄断，更标志着中国半导体产业正式叩开了7纳米以下先进制程的大门，据悉林楠曾是荷兰ASML公司研发 ...