而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV光刻设备，那么芯片战就会结束。 这背后是看到了国产EUV光刻机技术突破越来越近，中芯国际未来或有望实现跨越 ...

光刻机作为芯片生产的关键设备，被视为国家战略重器之一。它分为EUV和DUV两种类型。EUV光刻机的制造技术要求尤为严格，这属于我国技术领域的短板。 近年来，我国科研院所和高校持续开展科技攻关，逐步攻克制造技术领域的难题。 EUV光刻机技术难度高 ...

EUV光刻机的波长为13.5nm，而100KeV电子束的波长只有0.004nm，波长短使其在分辨率方面与EUV相比有绝对的优势，也使得电子束能够实现EUV光刻都实现不了 ...

而王国辉突然表态看好中芯国际，认为中国国内市场庞大且具备一定的“隔离效应”，中芯国际缺的是一台国产EUV光刻机，一旦有公司成功研发出EUV ...