这些计算机芯片推动了当今人工智能、高性能超级计算机和智能手机领域的惊人创新。 如今，由LLNL领导的一个新的研究合作伙伴关系旨在为下一代极紫外（EUV）光刻技术奠定基础，该技术围绕实验室开发的驱动系统——大口径铥（BAT）激光系统展开。这一突破 ...

在所有光刻机技术中，EUV（极紫外光）光刻机被视为最难攻克的技术之一。 平台声明：该文观点仅代表作者本人，搜狐号系信息发布平台，搜狐仅提供信息存储空间服务。

制造尖端芯片不可或缺的EUV（极紫外）光刻设备即将登陆日本。日本Rapidus（位于东京千代田区）将于2024年内在千岁工厂(北海道千岁市)引进，这将是日本国内首次引进。将由世界上唯一制造EUV光刻设备的荷兰阿斯麦(ASML)提供。 以Rapidus为开端，日本的 ...

快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定 ...

所以，目前光刻机依然是所有芯片设备中，最关键的设备之一。 也正因为如此，所以美国限制ASML自由的将光刻机卖给我们，EUV肯定是不准卖的，连浸润式DUV光刻机，也做了限制，先进的不准卖，只能卖一些相对落后一点的给我们。 美国的目的很简单，卡住了 ...

因此，光刻机作为芯片制造设备的核心地位依然稳固。 美国对ASML向中国出售光刻机的限制，尤其是禁止EUV光刻机出口，以及限制先进浸润式DUV光刻机的销售，进一步凸显了光刻机技术的重要性。美国的策略旨在通过控制光刻机的供应，来限制中国在芯片制造 ...

NIL 系统提供的优势可能会挑战价值 1.5 亿美元的机器，这些机器在当今先进的芯片制造中占据主导地位，即极紫外 （EUV） 光刻扫描仪。如果佳能是 ...

[导读]1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。 1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室(LLNL)正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器 ...