据悉，ASML、佳能、尼康的DUV光刻机都采用了 氟化氙 (ArF)准分子激光技术，通过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不稳定分子，释放出193nm波长的 ...

快科技3月25日消息，据悉，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体 ...

据悉，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体工艺推进至3nm。 据悉，ASML、佳能、尼康的DUV光刻机都采用了氟化氙(ArF)准分子激光技术，通过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不 ...

据悉，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光，与目前主流的DUV曝光波长一致，能将半导体工艺推进至3nm。

据悉，ASML、佳能、Nikon的DUV光刻机都採用了氟化氙（ArF）准分子雷射技术，透过氩、氟气体混合物在高压电场下生成不稳定分子，释放出193nm波长的 ...

ASML leads the lithography market with solid growth and pricing power. Read why ASML stock’s 14% IRR and $923 target reflect ...

3月6日，ASML发布了2024年的财务报告。报告显示，公司去年的净销售额达到282.63亿欧元，同比增长2.55%，创下历史新高；毛利率 ...

然而，DUV光刻机的需求依然强劲，甚至超出公司的交付能力，其中来自中国市场的订单表现尤为突出。 截至2024年底，ASML在全球范围内拥有44027名员工。