2025中国半导体设备和材料展,中国企业新凯来首次亮相,引起了全社会关注,13个类别,31款产品,展示了中国半导体设备全系列的突破。这也引起了大家对于芯片设备的广泛关注,我看到两个说法,我看都有些不妥,需要指出来:1.一种说法是中国已经研发出5nm的 ...
日本Rapidus公司宣布在北海道工厂计划部署10台EUV设备,并联合美国博通公司推进2nm芯片的量产,这一举措旨在重振日本本土的半导体制造能力。曾经的日本半导体产业辉煌一时,在全球市场占据重要份额。此次Rapidus的行动,是日本试图在半导体高端制 ...
据Wccftech报道,有消息人士依据Kiwoom证券发布的报告数据指出,中芯国际将在2025年完成5纳米芯片开发。值得注意的是,中芯此番依靠的并非EUV微影设备,而是深紫外光(DUV)微影设备。 这种技术路径的选择带来了一些不可避免的问题。数据显示 ...
“图纸给你们也造不出! ”这是ASML曾对中国芯片专家的嘲讽。然而2025年3月25日,中国科学院宣布的固态深紫外(DUV)激光技术,不仅让这句傲慢的预言沦为笑柄,更意味着中国半导体产业正式向3nm工艺发起冲锋。
ASML的担忧似乎成真了。ASML首席执行官曾表示,美国的制裁可能会促使中国自主研发出先进的技术。当时许多人认为这只是恭维之词,甚至有人觉得他是为了销售光刻机而吹捧中国。然而,不到两年时间,国产光刻机再次实现了重大突破。
Chinese electronics giant Huawei is testing elements for an extreme ultraviolet (EUV) lithography machine at its Dongguan ...
As US export controls tighten on advanced semiconductor technologies, Shenzhen-based SiCarrier unveiled new 5nm-capable ...
High NA EUV突破:英特尔季产3万片,imec 20nm良率90%,美光首用DRAM。 EUV技术自从其提出以来,面临着多重挑战,包括高成本、复杂的光学系统以及需要 ...
支撑人工智能革命的先进制程芯片需求呈现爆发式增长,正持续考验全球半导体产业的供给能力。从支撑大语言模型的超大规模数据中心,到智能手机、物联网设备和自动驾驶系统的边缘AI,各领域对尖端半导体的渴求已形成叠加效应。然而,这类芯片的制造 ...