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Mars战神Ares在搜狐586
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CMP 通过表面化学作用和机械研磨的技术结合来实现晶圆表面微米/纳米级不同材料的去除,从而达到晶圆表面的高度(纳米级)平坦化效应,使下一步的光刻工艺得以进行。#半导体 #晶圆 #CMP #抛光 #云工做砂轮
2023年3月22日
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云工做砂轮
国产CMP设备进入国际大厂产线
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2021年1月1日
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提高CMP抛光液在半导体行业化学机械抛光中的作用#研磨抛光 #半导体抛光液 #碳化硅抛光液 #硅晶圆抛光液 #SIC衬底抛光液
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布莱特磨粒流微孔抛光机原理:解决内孔抛光,交叉孔去毛刺难题。苏州布莱特磨粒流公司是专业的磨粒流去毛刺机,流体抛光机,微孔,内孔抛光机,磨粒流抛光机,挤压研磨机生
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等离子抛光机(去毛刺/镜面抛光)
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2023年4月27日
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CMP抛光垫在CMP技术中的作用#半导体抛光液#CMP抛光液#抛光液厂家#CMP抛光垫#半导体抛光垫#阻尼布抛光垫#无纺布抛光垫#聚氨酯抛光垫#抛光液厂家
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抛光液配方,抛光液制作方法
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吉致电子金属钼的CMP抛光工艺#研磨抛光 #钼片抛光液 #半导体抛光液 #金属钼抛光液 #钼衬底抛光液
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